Оригинал (Original)
Автори: Александрова, С., Халова, Е. Й., Кожухарова, Н.
Заглавие: ,“Свръхтънки оксиди върху плазмено хидрогениран силиций”
Ключови думи: силиций, силициев диоксид, ВЧ плазма, плазмена йонна имплант

Библиография

    Издание

    Дни на физиката’2019, Сб. Популярни и научни доклади, том 11, стр. стр. 65-68, 2019, България, София, Издателство на ТУ-София, ISSN 1313-9576

    Издателските права се държат от Издателство на ТУ-София

    		Autors: Alexandrova, S., Halova, E. Y., Koujuharova, N.
    Title: "Ultra-thin oxides on plasma hydrogenated silicon"
    Keywords: Si, SiO2 , HF plasma, plasma ion implantation

    References

      Issue

      Days of Physics at the Technical University - Sofia, vol. 11, pp. 65-68, 2019, Bulgaria, Sofia, Publishing house of TU-Sofia, ISSN 1313-9576

      Copyright Издателство на ТУ-София

      Вид: публикация в национален форум, публикация в реферирано издание