Оригинал (Original)
Автори: Видеков, В. Х., Цанева, Б. Р., Врублевски И.А., Поркун В.М.
Заглавие: "Твърдотелен LIGA”® процес чрез използване на аноден оксид
Ключови думи: аноден алуминиев оксид, LIGA процес

Абстракт: Представените изследвания разглеждат възможността за използване процесите на анодно оксидиране на алуминий за създаване на тримерни структури. Известният LIGA процес използва резисти чувствителни към рентгеново или ултравиолетово лъчение. В тях се създават вертикални отвори с малка апертура в които се отлагат метали. Особеността на процеса е използване на дебели фоторезисти, които имат определена термична стабилност. Предлаганият нов метод използва свойството на анодния оксид да създава дебели слоеве които имат условно анизотропно ецване. Представени са технологични схеми за създаване на оксидни покрития и отвори в тях чрез използване на класическа фотолитографска техника. Процесът позволява създаване на отвори в оксида с малка апертура които могат да бъдат запълвани чрез електрохимично израстване на метали. Като пример е използвано отлагане на мед в аноден оксид при което са получени вертикални структури с относителен размер 1/10.

Библиография

    Издание

    Електротехника и електроника, том 43, брой 3, стр. стр. 29-33, 2008, България, София, Съюзът по електроника, електротехника и съобщения, ISSN 0861-4717
    		Autors: Videkov, V. H., Tzaneva, B. R., Vrublevski I.A., Porkun V.M.
    Title: Solid State LIGA® Process Using Anode Oxide
    Keywords: anodic aluminum oxide, LIGA process

    Abstract: The researches that are being presented consider the consider the possibility to use the aluminum anode oxidation processes for creation of 3-D structures. The well-known LIGA process uses resists, which are sensitive to X-ray or ultrm1iolet radiation. Vertical openings with different aperture in which metals are deposited are created in them. The special feature of the process is the usage of thick photoresists, which have a definite thermal stability. The suggested new method uses the property of anodic oxide to create thick layers, which have conditional anisotropic etching. Technological schemes for creation of oxide backing and openings in them using classic photolithography are presented. The process enables the creation of openings in the oxide with small aperture, which can be filled in via electrochemical growth of metals. Deposition of copper in anode oxide is given as an example, where vertical structures with relative size of 1/10 have been obtained.

    References

      Issue

      Electrotechnica & Electronica, vol. 43, issue 3, pp. 29-33, 2008, Bulgaria, Sofia, The Bulgarian Union of Electronics, Electrical Engineering and Telecommunications, ISSN 0861-4717

      Вид: пленарен доклад в международен форум, публикация в реферирано издание, индексирана в Google Scholar